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ハイテク汚染
◆概要
□「IC産業など時代の先端を行く産業による環境汚染。アメリカ・カリフォルニア州のシリコンバレーは世界のなかでハイテクノロジーの集積地として有名だが、ハイテクノロジーによる環境汚染の先進地ともなっている。半導体産業を中心にして、トリクロロエチレンなどの有機塩素系溶剤による地下水や大気の汚染、有毒化学物質による地下水や井戸水の汚染、職業病（全身中毒）の高い発生率がそうである。
日本でも、1982（昭和57）年より地下水汚染調査が開始された他、発がん性が疑われていたトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンの規制に関して、1989（平成元）年に化学物質審査規制法に基づく第二種特定化学物質として指定され、水質汚濁防止法においても有害物質として規制されることとなった」（寄本［2005：380］）
□「ハイテク産業が起こす環境汚染。半導体製造などのハイテク産業のクリーン度を保つには洗浄が必要で、そのためにトリクロロエチレンなどの有機溶剤やフロン・ガスが使われている。しかしその有機溶剤で地下水汚染が発生し、フロン・ガスによるオゾン層破壊と温室効果がひき起こされる。日本では、1984年（昭和59）に兵庫県太子町の東芝太子工場のトリクロロエチレンの地下タンクからとみられる地下水汚染が発生した。87年には、千葉県君津市の東芝コンポーネンツでトリクロロエチレンの取り扱い上の不備から地下水汚染が起きた」（吉田［2005：749］）
▼文献
●吉田文和、2005「ハイテク汚染」佐々木・鶴見・富永・中村・正村・村上編集委員［2005：749］
●寄本勝美、2005「ハイテク汚染」阿部・今村・岩崎・大久保・澤井・辻山・山本・寄本［2005：380］
■佐々木毅・鶴見俊輔・富永健一・中村政則・正村公宏・村上陽一郎編集委員、2005『戦後史大辞典 〔増補新版〕』三省堂.
■阿部齊・今村都南雄・岩崎恭典・大久保皓生・澤井勝・辻山幸宣・山本英治・寄本勝美、2005『地方自治の現代用語 〈第二次改訂版〉』学陽書房.
▼参考文献
■吉田文和、1989『ハイテク汚染』岩波新書.
■吉田文和、2001『IT汚染』岩波新書（741）.
▼関連
◆20130503, 0629*, 1207
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